ICS 31.030 L 97 中华人民共和国国家标准 GB/T 15871—1995 硬面光掩模基板 Hard surface photomask substrates 1995-12-22发布 1996-08-01实施 国家技术蓝督局 发布 GB/T 15871—1995 前 言 本标准非等效采用SEMI标准SemiP1一92《硬面光掩模基板》。 本标准基板技术要求全部按SemiP1--92中第4章至第8章制定。 本标准附录A是提示的附录。 本标准由中华人民共和国电子工业部提出。 本标准由电子工业部标准化研究所归口。 本标准起草单位：长沙韶光微电子总公司、电子工业部标准化研究所。 本标准主要起草人：吴保华、王亦林、赵雨生、谈仁良。
GB-T 15871-1995 硬面光掩模基板
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