(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210071482.4 (22)申请日 2022.01.21 (71)申请人 江阴纳力新材 料科技有限公司 地址 214443 江苏省无锡市江阴市申港街 道亚包大道5 5号4-3 (72)发明人 王天兵　贾斌　程毅　李学法　 张国平　 (74)专利代理 机构 苏州汇诚汇智专利代理事务 所(普通合伙) 32623 代理人 柯兴宇 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 3/08(2006.01) B08B 3/14(2006.01) B08B 5/02(2006.01)B08B 13/00(2006.01) C25D 7/06(2006.01) (54)发明名称 一种电镀用杂质清除装置 (57)摘要 本发明公开了一种电镀用杂质清除装置， 包 括自调节机构和喷淋机构， 自调节机构包括设置 在电镀机 上的支撑座、 相对滑动设置在支撑座上 且均能转动的主导电辊和辅助导电辊， 喷淋机构 包括滑动设置在支撑座上的喷淋座、 对称设置在 喷淋座上的回收部、 喷淋部和设置在电镀机上且 与喷淋部连接并用于驱动喷淋部作业的动力源， 回收部位于喷淋部的正下方且主导电辊、 辅助导 电辊均位于回收部和喷淋部 之间， 本发明的目的 在于提供一种电镀用杂质清除装置， 主导电辊和 辅助导电辊配合使用， 方便对主导电辊或辅助导 电辊单体杂质， 代替人工， 有效提高清除杂质的 效率； 同时还实现电镀 机不间断作业。 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 CN 114260243 A 2022.04.01 CN 114260243 A 1.一种电镀用杂质清除装置， 其特征在于： 包括自调节机构和喷淋机构， 所述自调节机 构包括设置在电镀机上的支撑座(1)、 相对滑动设置在支撑座(1)上且均能转动的主导电辊 (2)和辅助导电辊(3)， 所述喷淋机构包括滑动设置在支撑座(1)上的喷淋座(5)、 对称设置 在喷淋座(5)上 的回收部、 喷淋部和设置在电镀机上且与喷淋部连接并用于驱动喷淋部作 业的动力源， 所述回收部位于喷淋部的正下方且主导电辊(2)、 辅助导电辊(3)均位于回收 部和喷淋部之间。 2.根据权利要求1所述一种电镀用杂质清除装置， 其特征在于： 所述 回收部包括设置在 喷淋座(5)上且用于收集杂质的收集槽(6)， 所述 收集槽(6)具有朝 上的收集口且收集口位 于喷淋部的正下 方。 3.根据权利要求2所述一种电镀用杂质清除装置， 其特征在于： 所述收集口处可拆卸设 置有网状隔板(7)。 4.根据权利要求1所述一种电镀用杂质清除装置， 其特征在于： 所述喷淋部包括设置在 喷淋座(5)上且 具有喷淋腔室的喷淋架(8)和设置在喷淋架(8)上的多个高压喷嘴(9)， 所述 动力源、 多个高压喷 嘴(9)均与喷淋腔室连通。 5.根据权利要求4所述一种电镀用杂质清除装置， 其特征在于： 所述动力源为连通的储 气箱(10)和增压罐(11)， 所述增压罐(11)还通过气管与喷淋腔室连通且气管上设置有第一 阀门。 6.根据权利要求4所述一种电镀用杂质清除装置， 其特征在于： 所述动力源为连通的储 液箱(12)和增压泵(13)， 所述增压泵(13)还通过水管与喷淋腔室连通且 水管上设置有第二 阀门。 7.根据权利要求1所述一种电镀用杂质清除装置， 其特征在于： 所述支撑座(1)沿其高 度方向对称设置有两个调节气缸(4)且两个调节气缸(4)的伸缩杆分别与主基座、 辅助基座 连接并能带动其滑动， 所述主导电辊(2)转动 设置在主基座上、 辅助导电辊(3)转动 设置在 辅助基座。 8.根据权利要求7所述一种电镀用杂质清除装置， 其特征在于： 所述主基座和辅助基座 均包括一体成型 的连杆和设置在连杆两端的侧板， 其中一个所述调节气缸(4)的伸缩杆与 主基座上的侧板连接、 另一个调节气缸(4)的伸缩杆与辅助基座上的侧板连接， 所述主导电 辊(2)转动设置在其中两个侧板之间、 辅助导电辊(3)转动设置在剩余两个侧板之间， 。 9.根据权利要求1所述一种电镀用杂质清除装置， 其特征在于： 所述支撑座(1)沿其宽 度方向设置有直线模组(14)， 所述直线模组(14)的模块与喷淋座(5)连接并能带动其滑动， 所述喷淋座(5)位于主导电辊(2)和辅助导电辊(3)之间。 10.根据权利要求1所述一种电镀用杂质清除装置， 其特征在于： 所述喷淋座(5)为L型 结构。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114260243 A 2一种电镀用杂质清除装 置 技术领域 [0001]本发明涉及电镀 工艺领域， 尤其涉及一种电镀用杂质清除装置 。 背景技术 [0002]电镀是金属膜生产的一道工序， 是利用电解原理在 基膜(有机高分子薄膜)的表面 上镀上一金属薄层或合金薄层的过程， 达到提高耐磨性、 导电性、 反光性、 抗腐蚀性及增进 美观等作用。 由于在其表面层积了金属， 使得该基膜具有很好的导电性能， 故电镀工艺广泛 应用于各行各业中。 在现有金属箔或复合金属箔的电镀生产过程中， 通过导电辊对金属箔 或复合金属箔进行导电， 箔从镀液中通过， 会在表面附着一层镀液接触导电辊， 从而造成导 电辊表面结 晶， 导电辊表面的金属结 晶会使得基膜和和导电辊中存在微小的间隙， 如果不 及时清除会影响电镀效果， 甚至容 易刺穿基膜。 [0003]而目前的清除导电辊表面杂质的方式是通过操作人员用洁净布来回擦拭导电辊， 这种方式效率低下， 需要大量的劳动力， 也 容易影响电镀 工艺的进度。 发明内容 [0004]为克服上述缺点， 本 发明的目的在于提供一种电镀用杂质清除装置， 结构简单， 主 导电辊和辅助导电辊配合使用， 方便对主导电辊或辅助导电辊单体杂质， 代替人工， 有效提 高清除杂质的效率； 同时还实现电镀 机不间断作业。 [0005]为了达到以上目的， 本发明采用的技术方案是： 一种电镀用杂质清除装置， 包括自 调节机构和喷淋机构， 自调节机构包括设置在电镀机上 的支撑座、 相对滑动设置在支撑座 上且均能转动的主导电辊和辅助导电辊， 喷淋机构包括滑动设置在支撑座上 的喷淋座、 对 称设置在喷淋座上的回收部、 喷淋部和设置在电镀机上且与喷淋部连接并用于驱动喷淋部 作业的动力源， 回收部位于喷淋部的正下方且主导电辊、 辅助导电辊均位于回收部和喷淋 部之间。 [0006]本发明一种电镀用杂质清除装置 的有益效果是， 主导电辊下滑动、 至电镀机 的输 送机构上方， 主导电辊进行电镀作业； 此时辅助导电辊上滑动至主导电辊上方， 并保持稳 定。 [0007]当主导电辊需要进行清除杂质 作业时， 辅助导电辊下滑动、 至电镀机 的输送机构 上方， 辅助导电辊进 行电镀作业， 使电镀机不间断作业； 此时主导电辊上滑动至辅助导电辊 上方， 喷淋座滑动， 使 得喷淋座靠近回收部和喷淋部且主导电辊位于回收部和喷淋部 之间， 动力源启动， 带动喷淋部作业， 实现对主导电辊的除杂质作业， 除杂后的杂质被回收部收 集， 避免弄脏电镀机其他位置。 反之同理， 辅助导电辊进行清除杂质作业时， 主导电辊进行 电镀作业。 回收部的设置使保持电镀机其他位置保持干净， 避免杂质乱飞。 主导电辊和辅助 导电辊配合使用， 方便对主导电辊或辅助导电辊单体杂质， 代替人工， 有效提高清除杂质的 效率； 同时还实现电镀 机不间断作业。 [0008]作为本发明的进一步改进是， 回收部包括设置在喷淋座上且用于收集杂质的收集说　明　书 1/4 页 3 CN 114260243 A 3