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(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210703836.2 (22)申请日 2022.06.21 (71)申请人 微纳感知 (合肥) 技 术有限公司 地址 230088 安徽省合肥市高新区望江西 路900号中安创谷科技园一期 D6栋 (72)发明人 杨正 荣钱 马云龙 周睿颖 陈江军 张伟 陈栋梁 (74)专利代理 机构 合肥市浩智运专利代理事务 所(普通合伙) 34124 专利代理师 张景云 (51)Int.Cl. G01N 21/95(2006.01) G01N 21/01(2006.01) G01B 11/00(2006.01) G01N 33/00(2006.01)B81B 7/02(2006.01) (54)发明名称 MEMS气体传感器晶圆微加工及测试系统、 方 法 (57)摘要 本发明公开一种MEMS气体传感器晶圆微加 工及测试系统、 方法, 系统包括机架, 所述机架上 设置有操作平台、 点样系统、 测试系统、 划片系 统、 点样工位、 测试工位、 划片工位、 驱动装置、 视 觉系统、 控制单元; 所述点样系统、 测试系统、 划 片系统、 驱动装置、 视觉系统分别与控制单元电 连接; 所述驱动装置能够驱动所述操作平台分别 移动至点样 工位、 测试工位、 划片工位。 方法包括 晶圆位置矫正、 形 成Maping图、 点样、 测试、 划片。 本发明的优点在于: 能够兼顾MEMS气体传感器晶 圆涂敷气敏材 料、 检测、 切割, 且 整体成本 较低。 权利要求书2页 说明书9页 附图11页 CN 115096906 A 2022.09.23 CN 115096906 A 1.一种MEMS气体传感器晶圆微加工及测试系 统, 其特征在于: 包括机架(1), 所述机架 (1)上设置有操作平台(2)、 点样系统(3)、 测试系统(4)、 划片系统(5)、 点样 工位、 测试工位、 划片工位、 驱动装置、 视 觉系统(7)、 控制单 元; 所述点样系统(3)、 测试系统(4)、 划片系统(5)、 驱动装置、 视觉系统(7)分别与控制单 元电连接; 所述驱动装置能够驱动所述操作平台(2)分别移动至点样工位、 测试工位、 划片 工位。 2.根据权利要求1所述的MEMS气体传感器晶圆微加工及测试系统, 其特征在于: 所述驱 动装置采用三轴机械臂(6), 所述三轴机械臂(6)的活动端设置有旋转机构(61), 所述三轴 机械臂(6)能够驱动旋转机构(61)在水平面内以及沿竖直方向运动; 所述旋转机构(61)的旋转轴线沿竖直方向, 所述操作平台(2)安装在旋转机构(61)的 活动端。 3.根据权利要求1所述的MEMS气体传感器晶圆微加工及测试系统, 其特征在于: 所述测 试系统(4)包括设置在机架(1)上的探针卡架(41), 探针卡架(41)上设置有探针卡(42); 还包括设置在机架(1)或者探针卡架(41)上的光学显微镜(43), 所述光学显微镜(43) 的目镜处设置有ccd摄像头, 所述光学显微镜(43)能够在水平 面内以及沿竖直方向移动, 所 述光学显微镜(43)能够观察晶圆以及探针卡(42)。 4.根据权利要求3所述的MEMS气体传感器晶圆微加工及测试系统, 其特征在于: 所述探 针卡架(41)上设置有出气口(411)、 吸气口(412), 晶圆能够随操作平台(2)移动至出气口 (411)、 吸气口(412)之间。 5.根据权利要求1所述的MEMS气体传感器晶圆微加工及测试系统, 其特征在于: 所述视 觉系统(7)包括竖直滑动安装在机架(1)上的摄 像头(71)。 6.一种采用如权利要求1 ‑5任一项所述的MEMS气体传感器晶圆微加工及测试系统的方 法, 其特征在于: 包括如下步骤: S1、 晶圆位置矫 正 将晶圆片的芯片阵列矫 正到横平竖直的位置; S2、 形成Mapi ng图 系统以CAD图为基础, 形成Maping图, 所述Mapin g图即以单个芯片大小的方块集合的阵 列, 并进行排序, Maping中的每个方块存储芯片 的序号、 位置信息、 测试结果, 在视觉系统 (7)中将阵列与实际芯片位置对应, 能够在系统中选择对任意一个芯片进 行观察、 测试以及 材料加载等操作; S3、 点样 晶圆随操作平台(2)移动至点样工位, 点样系统(3)对晶圆点样, 点样后对晶圆进行干 燥; S4、 测试 所述驱动装置驱动操作平台(2)带动晶圆移动 至测试工位, 所述测试系统(4)对半导体 传感器测试时, 测试加热态电阻、 冷态电阻、 芯片邻脚电阻及相对应的电流、 电压; 所述测试 系统(4)对催化燃烧传感器测试时, 测试加热丝电阻和电桥偏压; S5、 划片 所述驱动装置驱动操作平台(2)带动晶圆移动 至划片工位, 划片系统(5)对晶圆进行切权 利 要 求 书 1/2 页 2 CN 115096906 A 2割。 7.根据权利要求6所述的方法, 其特征在于: 步骤S1中, 将晶圆放置到操作平台(2)上 后, 所述驱动装置驱动操作平 台(2)带动晶圆移动, 通过视觉系统(7)找到芯片上的特征点 位, 通过操作平台(2)将晶圆片的芯片阵列矫 正到横平竖直的位置, 进行晶圆位置矫 正。 8.根据权利 要求6所述的方法, 其特征在于: 步骤S3中, 所述点样系统(3)包括设置在机 架(1)上的压电喷射阀和 /或气动点胶阀; 选择喷射点样或者点蘸点样: 通过压电喷射阀进 行喷射点样时, 设定点样高度, 即芯片与压电喷射阀阀口之间的距离, 确定点样位置, 设置 压电喷射阀参数, 矫正胶点的状态及位置; 通过气动点胶阀进行点蘸点样时, 确定点样位 置, 设置点样高度、 气动点胶阀参数, 矫 正胶点的状态及位置; 然后进行点样。 9.根据权利 要求6所述的方法, 其特征在于: 步骤S4中, 所述测试系统(4)包括设置在机 架(1)上的探针卡架(41), 探针卡架(41)上设置有探针卡(42); 还包括设置在机架(1)或者 探针卡架(41)上的光学显微镜(43), 所述光学显微镜(43)的目镜处设置有ccd摄像头, 所述 光学显微镜(43)能够在水平 面内以及沿竖直方向移动, 所述光学显微镜(43)能够观察晶圆 以及探针卡(42); 首先进行校对: 晶圆随操作平台(2)移动 至测试工位, 通过光学显微镜(43)先校对探针 卡(42)和芯片的落针位置, 系统记录落针相对位置, 并对其他芯片相同位置进 行落针; 校对 完成后, 进行测试; 测试结果为Maping格式, 包含测试的所有数据, 并能够转换为其他格式 如excel及txt格式数据; 同时系统能够读取Mapi ng格式数据, 对电阻较大的点 位进行补料。 10.根据权利要求6所述的方法, 其特征在于: 步骤S5中, 所述划片系统(5)包括设置在 机架(1)上的激光器; 在CAD中画出运动线条, 导入后自动生成运动 路径, 划片以CAD图为基 础, 晶圆随操作平台(2)移动至划片工位, 通过视觉系统(7)进 行激光点位矫正, 晶圆 随操作 平台(2)按照生成的运动路径进行线性 运动, 激光器对晶圆进行切割。权 利 要 求 书 2/2 页 3 CN 115096906 A 3
专利 MEMS气体传感器晶圆微加工及测试系统、方法
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